日本:商標法の一部改正について

平成23年6月8日に、「特許法等の一部を改正する法律」が法律第63号として公布されました。この中には、商標法の一部改正も含まれており、下記の改正点が平成24年4月1日より施行されます。 なお、これに伴って商標審査基準も改正され、平成24年4月1日より適用となります。

◆ 博覧会指定の廃止 商標法第4条第1項第9号及び第9条第1項に規定する、特許庁長官による博覧会の指定制度が廃止されました。

第4条第1項第9号における商標の不登録事由の対象であった、「特許庁長官が指定する博覧会の賞と同一又は類似の標章を有する商標」が、「特許庁長官の定める基準に適合する博覧会の賞と同一又は類似の標章を有する商標」に改められました。

同様に、第9条第1項に定める出願時の特例対象についても、特許庁長官が指定するものから、特許庁長官の定める基準に適合するものへ改正されました。

なお、上記の「特許庁長官の定める基準」については、特許庁告示第六号で定められました。

◆ 商標権消滅後一年間の登録排除規定(第4条第1項第13号)の廃止 商標法第4条第1項第13号は、商標権が消滅した日から一年を経過していない他人の商標又はこれに類似する商標の登録排除規定となっていますが、改正法ではこの規定が削除されました。

この改正は、早期の権利取得というユーザーのニーズに応える観点から、商標権が消滅した後に、1年間の期間経過を待たずに他人が商標登録を受けることを可能にするものです。

この規定が廃止されることにより、例えば、登録異義の申立てにおける取消決定が確定した場合や、商標登録の無効審判において無効審決の確定を原因とする商標権の消滅が生じた場合、同決定及び審決の確定後に、直ちに登録査定が可能になります。 また、商標権の放棄については、放棄の設定登録後に、直ちに登録査定が可能となります。

ただし、商標権の存続期間満了の場合は、満了後でも権利が更新されることがあるため、過誤登録防止の観点から、存続期間満了後の更新申請の有無の確認が必要となります。

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